HFCVD化學(xué)氣相沉積金剛石，原理為:將含碳?xì)夥张c過(guò)飽和的氫氣混合，經(jīng)過(guò)某種方式活化后通在一定的氣氛組成、 活化能量、襯底溫度以及襯底與活化源之間的距離等條件下，在底表面沉積金剛石薄膜。一般認(rèn)為， 金剛石膜的形核與生長(zhǎng)可以分為三個(gè)階段：
(1)含碳?xì)怏w和氫氣在一定 的溫度下分解成碳、氫原子和其它活性游離基團(tuán)，他們與基體結(jié)合先形成一層很薄的碳化物過(guò)渡層；
(2)碳原子在基體上形成的過(guò)渡層上沉積金剛石晶核；
(3)形成的金剛石晶核在適當(dāng)?shù)沫h(huán)境下長(zhǎng)大成金剛石微品，繼而長(zhǎng)大成金剛石薄膜 。

納米涂層優(yōu)勢(shì)：

納米金剛石復(fù)合涂層拉拔模具，是以硬質(zhì)合金（WC-Co）為襯底，采用化學(xué)氣相法（簡(jiǎn)稱(chēng)CVD法）在模具的內(nèi)孔表面涂覆常規(guī)金剛石和納米金剛石復(fù)合涂層，并對(duì)涂層進(jìn)行研磨拋光后得到的一種全新產(chǎn)品。內(nèi)孔表面涂覆的納米金剛石復(fù)合涂層，既具有常規(guī)金剛石涂層附著力強(qiáng)、耐磨的特點(diǎn)，又具有納米金剛石涂層表面平整光滑、摩擦系數(shù)小和容易研磨拋光等優(yōu)點(diǎn)，納米金剛石復(fù)合涂層技術(shù)，不僅解決了涂層附著力這一技術(shù)難題，而且突破了金剛石涂層表面不易拋光這一瓶頸，掃除了CVD金剛石薄膜產(chǎn)業(yè)化的障礙。